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制造芯片的关键材料,被日本几乎垄断市场,这

来源:功能材料与器件学报 【在线投稿】 栏目:综合新闻 时间:2021-03-24
作者:网站采编
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摘要:1959年光刻胶被发明,此后其便作为半导体制造材料发挥着重要作用,是精细化工领域技术壁垒最高的材料。长期以来,光刻胶市场几乎被日本企业所垄断,占比高达72%。而我国虽也有在

1959年光刻胶被发明,此后其便作为半导体制造材料发挥着重要作用,是精细化工领域技术壁垒最高的材料。长期以来,光刻胶市场几乎被日本企业所垄断,占比高达72%。而我国虽也有在光刻胶行业发力,但因为起步晚、面对高技术壁垒等问题,在高端光刻机领域难以突破。

据中国产业信息网公布的数据显示,我国在低端PCB光刻胶的产值占比高达94.4%。而在高端半导体光刻胶的产值却只有1.6%。为了打破海外垄断,上海新阳作为我国光刻胶巨头,不断向该领域发起冲击。据上海新阳最新披露的定增预案显示,其将募集最高15亿元的资金用于项目建设。

上海新阳将拿出7.32亿元募集资金,用于集成电路制造以及高端光刻胶研发与产业化,其开发目标为在集成电路制造中ArF干法工艺用光刻胶,以及3DNAND台阶刻蚀用KrF厚膜光刻胶产品。若是上海新阳进展顺利,其将在ArF干法光刻胶与KrF厚膜光刻胶两大领域掌握规模化的生产技术。

目前,我国90到14nm高端芯片制造所需的ArF光刻胶完全依赖进口,并且,多国禁止ArF光刻胶技术对我国进行输入。这显然于我国芯片制造安全不利。为改变这一困局,实现广建材料自力更生,上海新阳从2017年,便对光刻胶研发项目进行了筹划。

如今上海新阳已经建起了优秀的研发团队,并在光刻胶巨头企业有着超20年经验的专家人才。光刻胶研发与检测高端设备、大量的资金投入等,自是不必多说。经过不断努力,上海新阳的ArF干法光刻胶与KrF厚膜光刻胶已经实现了实验室研发阶段,为其本次项目打下了不错的基础。

根据项目计划,KrF厚膜光刻胶游与ArF光刻胶则分别将于2021年与2022年,实现少量销售。而二者的量产则分别在2022与2023年实现,十分令人期待。当前,上海新阳已经走在我国光刻胶领域的前列,上海微电子、中芯国际等都是其重要客户。

此外,上海新阳还在筹备合肥第二生产基地建设,据悉,该项目投资7亿元,预计在2022年实现投产。该项目围绕芯片制程使用的关键工艺材料开展,进行研发、生产与销售三项活动。从上海新阳的种种规划来看,国产高端光刻胶有望实现突破。

文/BU审核/有鱼

文章来源:《功能材料与器件学报》 网址: http://www.gnclyqjxb.cn/zonghexinwen/2021/0324/599.html



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